Ceramic

ALCHEMISTの全製品は、産業の現場の要件に合わせて設計されており、
長年にわたり蓄積された技術力をもとに優れた耐久性・精度・安定性を実現、
安心してご使用いただけます。

Ceramic

Yttria, Y₂O₃

プラズマエッチング速度はアルミナに比べて大幅に低くなっています。
これにより、部品の寿命を大きく延ばすだけでなく、チャンバー内の清浄度を維持することで、歩留まりの向上にも重要な役割を果たします。

Properties	Value
Plasma Etch Rate	Extremely low (excellent protection)
Chemical Stability	Highly resistant to fluorine (F) and chlorine (Cl) gases
Particle Contamination	Minimal corrosion generation, ensuring high cleanliness
Electrical Properties	Excellent electrical insulation, but lower than that of alumina
Machinability	Difficult to sinter; primarily applied as a coating
Application Type	Focus Ring, Chamber Lin

Ceramic

Alumina, Al₂O₃

高温環境下においても優れた電気絶縁性を維持するとともに、
優れた機械的強度と耐摩耗性により、各種プロセスにおける半導体
装置の構造的安定性を支える、汎用性の高いコア材料です。

Properties	Value
Plasma Etch Rate	Relatively high (rapid erosion)
Chemical Stability	Resistant to acids and alkalis, but vulnerable to fluorine (F)
Particle Contamination	Corrosion-induced contamination
Electrical Properties	Very high dielectric breakdown strength
Machinability	Easy molding and precision polishing
Application Type	Chamber structures and insulating components

Product